三星电子今日宣布，它们将通过EUV光刻技术来加快11nm LPP、7nm LPP两种新工艺的进度，而前者预计最快会在2018年投产，而7nm LPP则需要等到2018年下半年。

三星表示，11nm LPP（Low Power Plus）给他们的客户提供了更多的选择，与之前的14nm LPP工艺相比，11nm LPP工艺有15%的性能提升，而且它的芯片面积还降低了10%。11nm LPP工艺的出现，让中高端智能手机有了更多的选择。三星认为，除了10nm FF工艺外，11nm LPP工艺的出现对于中高端智能手机意义非凡。而在EUV光刻技术下，7nm LPP工艺也在如期进行当中。

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